文献解读|丝印柔性压力传感阵列:碳点高度与 PU/AB 隔离层调控,灵敏度 11 kPa⁻¹、量程 942 kPa

柔性压力传感阵列要在可穿戴与机器人场景落地,需同时满足高空间分辨率、低像素串扰与宽检测范围三项要求。传统光刻、激光刻蚀路线虽能获得高灵敏度,却依赖多工序协同与昂贵设备;丝网印刷因成本低、可大面积制备而受关注,但其敏感单元尺寸大、金属走线宽,空间分辨率受限,灵敏度与量程亦难兼顾,且像素间串扰随像素尺寸减小而急剧上升。五邑大学团队在 IEEE Sensors Journal 发表的研究,提出一种以丝网印刷制备柔性压力传感阵列的优化工艺:通过不锈钢掩模孔径与印刷次数调控碳点高度,并引入聚氨酯(PU)与环氧树脂(AB 胶)混合隔离层,在提升灵敏度的同时扩展量程、抑制串扰,为低成本、可批量的阵列制备提供了可行路径。

丝印制备路线与不锈钢掩模工艺

器件以铜图案化聚酯(PET)薄膜为基底:先以激光刻蚀在 PET 上形成上下铜电极,电极直径 800 μm,兼作后续印刷的对位基准;随后以导电碳浆(CAPITON-900A 系列,黏度调至约 300 Pa·s,印刷方块电阻约 400 Ω/□)印刷碳点阵列作为敏感层,并在 120 ℃ 固化 20 min。本研究的关键工艺改进在于以不锈钢掩模替代尼龙丝网:不锈钢掩模可显著减少碳点阵列边缘模糊、尺寸不一与间距不均的问题,保证碳点阵列的印刷质量与一致性。碳点阵列随后与上铜电极连通形成可靠的短接结构,维持阵列初始开路、受压后导通的工作方式;最后以 3M 双面胶封装上下两层结构,器件中部总厚度为 168 μm。该路线不依赖复杂光刻工序,主要成本集中在掩模与印刷环节,具备批量化生产的潜力。

图1|柔性压力传感阵列的丝印制备流程

图1|柔性压力传感阵列的丝印制备流程。激光刻蚀铜/聚酯层形成上下铜电极阵列;以不锈钢掩模丝印导电碳浆形成碳点阵列;上层阵列、3M 绝缘胶带与下层阵列装配为柔性压力传感阵列。

碳点高度调控灵敏度与量程

研究通过不锈钢掩模的孔径与印刷次数调控碳点高度,进而调节阵列的响应范围与灵敏度。第一层以 800 μm 孔径在下铜电极上印刷;第二层分别以 400、600、800 μm 孔径印刷,得到 1#、2#、3# 样品;4# 样品则以 800 μm 孔径印刷三层。轮廓测试表明,1#–3# 第一层高度相近,第二层高度随孔径增大分别为 113、137、156 μm;4# 因印刷三层,碳点高度达 211 μm。压阻特性方面,1# 在 5 kPa 后电阻变化率显著上升并达 80%;2# 在高压力段变化率偏低;4# 在 5 kPa 即达 80%,而 3# 在 15 kPa 时接近 80% 的电阻变化。第一压力饱和响应区间位于 2–8 kPa,灵敏度介于 5–38.5 kPa⁻¹。以压力范围乘以灵敏度定义传感器性能系数(SPR),3# 的 SPR 最高(压力范围 8 kPa、灵敏度 11 kPa⁻¹),综合性能最优;4# 因碳点高度接近封装胶而 SPR 偏低。结果表明,通过双层印刷即可控制碳点高度与形貌,从而影响传感器的量程、灵敏度与曲线拐点;碳点与上电极的接触状态随高度变化,直接决定了受压时导电通路的建立过程。此外,1# 在 12 kPa 恒压下 100 个点的电阻变化率分布,以及十个阵列在约 1.3% 误差内的响应,验证了丝印碳浆阵列的成本效益与批量一致性。

图2|不同碳点高度阵列器件的性能

图2|不同碳点高度阵列器件的性能。(a)1#–4# 样品的高度轮廓测量曲线,插图为阵列局部结构;(b)四种样品的压阻特性曲线;(c)四种样品曲线第一拐点的响应范围、灵敏度与 SPR;(d)3# 样品单个传感点的循环稳定性测试。

压力响应机理:量子隧穿、欧姆接触与弹塑性变形

作者以三种物理模型解释不同压力区间的响应行为。低压区间(0–5 kPa)以量子隧穿机制为主,碳点接触电阻随压缩位移呈指数下降,如式(1)所示;中压区间(5–10 kPa)以欧姆接触为主,接触面积随压力线性增大而电阻线性下降,如式(2)所示;高压区间(大于 10 kPa)由弹塑性变形主导,接触面积随压力呈幂律增长,如式(3)所示。

R = R0 exp(−k Δx)(1)
R 为受压后电阻,R0 为初始电阻,k 为常数,Δx 为外力引起的压缩位移;量子隧穿机制适用于低压区间
R = ρ L / A(2)
ρ 为电阻率,L 为接触长度,A 为接触面积;欧姆接触机制适用于中压区间,A 随压力线性增大
A ∝ Pn(3)
A 为接触面积,P 为接触面压力,n 为与材料性质相关的指数;弹塑性变形机制适用于高压区间

据此可进一步解释隔离层的作用:隔离层硬度(HA)由弹性模量 E 决定,在小压缩位移下可用线性近似描述位移与压力的关系(Δx = x0P/E,x0 为初始间距),代入量子隧穿模型并对压力求导,可得灵敏度表达式,如式(4)所示。该式表明,随 HA(E)增大,灵敏度下降,但需要更高的压力才能产生显著压缩位移,因而量程被拓宽。由此可解释高敏感传感器往往量程窄、宽量程传感器灵敏度下降的固有矛盾,也为通过调节碳点高度与引入隔离层实现灵敏度—量程可定制化调控提供了依据。

S = ∂(ΔR / R0) / ∂P = (A k x0 / E) exp(k x0 P / E)(4)
S 为灵敏度,ΔR/R0 为电阻变化率,A 为常数,k 为隧穿常数,x0 为初始间距,E 为隔离层弹性模量,P 为压力;E 增大则灵敏度下降、量程拓宽

PU/AB 隔离层:灵敏度与量程的权衡调控

针对量程与灵敏度的矛盾,作者引入隔离层进行调控。以 AB 胶单独作绝缘墨水时,其表面张力与 PET 基材匹配不佳、印刷附着差且易脱落,且胶层柔软、无法提供隔离所需回弹;PU 胶表面张力低、与 PET 结合力强,可改善墨水附着力,PU 与 AB 混合后胶层更硬、更不易变形。为调控隔离层弹性并扩展量程,作者打印不同高度(10、100、110、120 μm)与不同 PU:A:B 比例的隔离层(1:1:1、2:1:1、3:1:1、1:0:0,对应 S1–S4)。结果显示,90 μm 隔离层灵敏度最高(应力集中带来的应变与电阻变化更大);100 与 110 μm 灵敏度相当;120 μm 灵敏度偏低而被排除。对 S1–S4 的研究表明,随 PU 含量增加,硬度升高,压力范围逐步扩展而灵敏度下降;S3 的量程达 942 kPa、灵敏度 0.09 kPa⁻¹,适用于宽量程、低灵敏度场景,而 3# 结构适用于小量程、高灵敏度场景。带隔离层的 S3 在循环测试中电阻波动仅 1.32%,响应时间 155 ms、恢复时间 90 ms,隔离层同时提升了传感的回弹性与使用寿命。

图3|传感分辨率与压敏机理

图3|传感分辨率与压敏机理。(a)样品在 0、5、10 kPa 不同初始参考压力下对 1 kPa 小压力的动态响应;(b)压力传感机理示意与等效电路。

串扰抑制与阵列稳定性

隔离层对抑制像素间串扰至关重要。作者对中心像素施加压力,采集中心像素与八个相邻像素的电流信号,以式(5)计算电流串扰系数:无隔离层阵列的 CTK 为 −7.64 dB,引入隔离层后降至 −11.65 dB,显著增强了阵列的抗干扰能力,确保压力刺激只影响受接触的像素而不干扰相邻像素。

CTKcurrent = 10 lg( Isur / Icen )(5)
CTKcurrent 为电流串扰系数,Isur 为八个相邻像素的平均电流,Icen 为中心像素电流;数值越低表示串扰越弱

稳定性方面,S3 阵列经 3000 次循环测试后电阻波动仅 1.32%。在 20–100 ℃、40%–70% 湿度条件下考察一个月,温度波动引起的十个传感点平均电阻变化率误差仅 0.4%;湿度变化对电阻变化率的影响在 5% 以内,各恒定湿度下每次测量误差约 1.2%,表明该阵列在温湿度扰动下具有良好稳定性,湿度敏感性可通过校准或封装改进进一步降低。16×16 共 256 个传感单元在约 9 cm² 面积上实现 1.6 mm 空间分辨率,相较同类丝印阵列在分辨率、量程与串扰等指标上均具优势。

图4|不同软隔离层阵列器件的性能

图4|不同软隔离层阵列器件的性能。(a)3# 与 S1–S4 样品的压阻特性曲线,插图为带隔离层的阵列局部结构;(b)S1–S4 隔离胶的软硬度测量;(c)3# 与 S1–S4 的响应范围、灵敏度与性能系数;(d)S3 样品单个传感点的循环稳定性测试。

压力分布检测系统与口腔舌压监测

作者将阵列与硬件电路、上位机软件集成为压力检测系统:传感阵列经多路复用器逐点采样,信号经放大、滤波后由模数转换器(ADC)数字化,交由 ARM Cortex-M4 微控制器处理,采用滑动平均滤波与 1024 点快速傅里叶变换(FFT)分析,数据经 USB Type-C 传至上位机实时显示压力分布。系统可准确捕获物体形状与压力变化,在 50、100、200 g 砝码下,压力分布图的颜色深度随重量递增,验证了其对不同压力等级的区分与测量能力。在医疗应用中,作者以带隔离的阵列监测站立位与侧卧位吞咽时的舌压分布:口腔期舌前部与两侧压力较高(站立位 10–20 kPa、侧卧位 20–25 kPa);咽期接触面积增大、压力升高,部分区域超过 20 kPa 并接近 40 kPa;吞咽后期压力逐渐下降但仍高于初始阶段。该阵列的 23 点压力映射优于传统 7 点方法,突出了体位与重力对舌压分布的影响,为吞咽生理研究与口腔压力监测提供了高分辨率工具。

图5|压力传感阵列系统及其应用

图5|压力传感阵列系统及其应用。(a)压力传感阵列系统的信号链架构;(b)不同砝码重量下阵列系统的压力分布;(c)舌压测量过程中不同阶段(口腔期、咽期、食管期)的压力分布。

工艺窗口与结构-性能关联

本文的技术内核是丝网印刷工艺的参数化调控——以掩模孔径、印刷次数与隔离层配方精确控制敏感层厚度与硬度,路线成本低、适合大面积阵列的一次成型。对需要更高结构自由度或更复杂三维构型的场景,增材制造是有益的补充与替代:DIW 浆料直写可通过调控碳系或导电复合墨水的屈服应力、触变恢复与自支撑性,逐层构建敏感层与隔离结构,便于在同一平台上实现敏感单元与隔离层的共打印及参数梯度设计;DLP 光固化则适合成型高精度模具与柔性封装件。本文以"敏感层高度—隔离层硬度"双参数调控灵敏度与量程的思路,与浆料直写中"固含量—流变窗口—结构尺寸"的调控逻辑相通,对配方设计与工艺参数映射具有借鉴意义。铂邦设备在多材料切换、路径规划与工艺参数库方面的能力,可为这类压力传感阵列的原型制备与机理验证提供支撑。

综上,本研究以不锈钢掩模丝网印刷制备碳点敏感阵列,通过掩模孔径与印刷次数调控碳点高度,并引入 PU/AB 混合隔离层,在 11.0 kPa⁻¹(低压)至 0.09 kPa⁻¹(942 kPa 宽量程)之间实现灵敏度与量程的可调,像素串扰由 −7.64 dB 降至 −11.65 dB。16×16 阵列实现 1.6 mm 空间分辨率与 1.32% 的循环稳定性,并在口腔舌压与吞咽压力监测中得到验证,为低成本、可批量的柔性压力传感阵列提供了可行方案。

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